@article{oai:sasebo.repo.nii.ac.jp:00000866,
 author = {渡辺, 哲也 and 中山, 美菜 and 松尾, 陽平 and 松尾, 悟大 and 福田, 真之 and 前田, 夏野 and 城野, 祐生 and 長田, 秀夫 and 田中, 泰彦 and Watanabe, Tetsuya and NAKAYAMA, Mina and MATSUO, Youhei and MATSUO, Godai and FUKUDA, Masayuki and MAEDA, Natsuno and Johno, Yuuki and Nagata, Hideo and TANAKA, Yasuhiko},
 journal = {佐世保工業高等専門学校研究報告, RESEARCH REPORTS OF NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY，SASEBO COLLEGE},
 month = {Jan},
 pages = {36--41},
 title = {鉄シリサイド系熱電半導体の合成におけるMA処理の湿式/乾式の影響},
 volume = {55},
 year = {2019},
 yomi = {ワタナベ, テツヤ and ナカヤマ, ミナ and マツオ, ヨウヘイ and マツオ, ゴダイ and フクダ, マサユキ and マエダ, ナツノ and ジョウノ, ユウキ and ナガタ, ヒデオ and タナカ, ヤスヒコ}
}